1，隨著氣體壓力升高，在弧光放電過程中，單位時間內(nèi)碰撞次數(shù)增加，電子與其他重粒子之間發(fā)生充分的能量交換，電子溫度與氣體溫度，離子溫度逐漸趨于相等，等離子體由非平衡狀態(tài)過渡到熱平衡狀態(tài)。2，等離子體相對

光學(xué)鍍膜機主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。 光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非

離子源燈絲的使用周期會因使用者的使用習(xí)慣和維護程度不同而千差萬別。發(fā)現(xiàn)離子源燈絲需要清洗時，使用者應(yīng)該更具說明仔細的進行操作，正確的清洗和重新安裝是至關(guān)重要的。除了對離子源燈絲本身的清洗，還應(yīng)該考慮到

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噴砂按工藝目的可分為：（1）表面清潔（2）刃口細化（3）改善鈷流失表面（4）涂層后處理。按噴砂的工藝方法分有干噴砂和濕噴砂。按操作方式可分為自動噴砂機和手動噴砂機。大部分干式噴砂機都配置有自動噴砂功能

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電弧穩(wěn)定性的影響因素：磁場、陰極表面的清潔程度、靶面的幾何尺寸、幾何形狀及表面狀態(tài)、陰極靶面的表面溫度、電弧電流的大小、真空室內(nèi)真空度及各組分氣體分壓種類等。磁場對電弧穩(wěn)定性的影響：在無外加磁場的情況